要生产出令客户满意的硅橡胶制品，表面处理工艺就很重要，除了印刷之外，还有就是要做好防尘。因为硅胶含有静电，这就使得产品很容易吸附灰尘、杂质和毛发。那么硅胶产品怎么去除静电，解决表面防尘问题呢?

　　理论上，硅胶表面存有氧气原子，带负极和静电，尘粒则带有正极，因此尘粒和硅胶静电表面可互相吸引，使表面沾尘难于清理，影响产品外观。针对硅胶表面容易沾尘的问题，硅胶制品厂致力研究解决方案，结果发现，利用等离子表面改性技术可改善有关表现，最终成功以等离子体辅助化学气相沉积(PECVD)技术，达到优化产品表面性质的效果。

　　受静电影响，一般硅胶容易沾尘，厂商若以传统化学涂层方法，防尘及润滑涂层功效只可维持数个月。好的方法是以等离子能量将硅胶表面的氧气原子改性，将负极硅胶表面改为正极，过程中使用无害的有机化学品，不会排出污染废料，因此是清洁生产工艺。其较低静电量特质，防尘效用高，适用于手表表带等，亦可用于医疗设备。

　　等离子体表面处理技术适用于纤维、聚合物和塑胶等物料，亦可应用于清洗、活化及蚀刻金属、塑胶与陶瓷材料的表面部分，改变材料表面的物理特征。硅胶产品防尘处理环保工艺，可有效解决硅胶静电、容易沾尘问题，延长产品寿命，是一种硅胶表面处理工艺。它可应用于所有硅胶及相关产品。

　　高能量脉冲式等离子磁控溅射技术(HPPMS)是结合「高能量」和「脉冲式」两大特征的新型磁控溅射系统。在镀层过程上，电源扮演重要的角色，采用「高能量」和「脉冲式」的放电方式，可于少于2微秒的短时间，发出高达1500V输出电压的强大能量，犹如闪电现象。由于过程中释放大量的离子，消除镀膜的内应力，因此可制成厚离子镀层，无损产品或工件的表面。这种方式可提高离化率(IonizationRate)，即改善涂层在产品表面的附着力。

　　高能量脉冲式等离子磁控溅射技术，能超越传统的磁控溅射方法，制作出高质量多于3μm的厚离子镀层。由于高能量脉冲方式有利增加离子的密度，不但加强镀层与底材之间的接合力，亦可减低表面粗糙度，在功能性部件上可进一步增强耐磨性能及减少替换次数。

　　对装饰性强的硅胶产品来说，可保持外观及更耐用，因此以高能量脉冲式制作镀层，能有效利用等离子体，从而控制涂层的结构，其特点是可沉积在光滑致密的微细结构，提升耐腐蚀性及表面光洁度。又或是可沉积在复杂的几何工件之上，达致更均匀的涂层。